::最专业的Parylene—彰盛奈米科技::

	·设为首页 / 加入收藏 / 联系我们

首页

公司概况

彰盛优势

产品介绍

性能优势

应用领域

技术中心

合作开发

English

	Parylene简介
	Parylene类型
	沉积过程

　　Parylene采用了一种独特的化学气相沉积工艺（CVD）。
CVD工艺最早应用于半导体工业的外延生长，整个过程是气态反应，又在真空条件下进行，因而可以获得非常均匀的涂层，达到其它方法难以实现的同形性。

沉积过程大体可分为三步：
1．真空120度条件下将固态原料升华成气态；
2．650度条件下将气态原料裂解成具有反应活性的单体；
3．气态单体在室温下沉积并聚合。

气态单体进入沉积腔室，首先扩散至沉积表面附近，吸附到各个表面后，开始聚合和结晶的过程，直接形成固体，避免了液相的出现，消除了涂层厚度不均匀和其中的缺陷。